Deep via seed repair using electroless plating chemistry

WO2005031834 Art A1 7. April 2005

Anmelder: Intel Corporation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2005031834
Aktenzeichen: EP04785008
Anmeldetag: 23. September 2004
Veröffentlichung: 7. April 2005
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/288H01L21/768

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Intel Corporation
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Intel

US-amerikanischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Kalifornien. Entwickelt und produziert Prozessoren, Chipsätze sowie weitere Halbleiterkomponenten für Computer, Server und eingebettete Systeme.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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