Plasma processing system

WO2005031839 Art A1 7. April 2005

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED, ADVANCED ENERGY INDUSTRIES, INC. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2005031839
Aktenzeichen: EP04788435
Anmeldetag: 30. September 2004
Veröffentlichung: 7. April 2005
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/3065H01L21/205

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: TOKYO ELECTRON LIMITED
ADVANCED ENERGY INDUSTRIES, INC.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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