Self-aligned v0-contact for cell size reduction of feram devices

WO2005031858 Art A1 7. April 2005

Anmelder: Infineon Technologies AG 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2005031858
Aktenzeichen: EP04775595
Anmeldetag: 31. August 2004
Veröffentlichung: 7. April 2005
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/8246H01L27/115H01L21/768

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Infineon Technologies AG
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Infineon Technologies

Deutscher Halbleiterkonzern mit Sitz in Neubiberg bei München, hervorgegangen aus Siemens. Entwickelt und fertigt Halbleiter und Systemlösungen für Automobil-, Industrie- und Sicherheitsanwendungen.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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