Adaptive thermal control of lithographic chemical processes

WO2005033801 Art A2 14. April 2005

Anmelder: ASML Holding N.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2005033801
Aktenzeichen: EP04782943
Anmeldetag: 31. August 2004
Veröffentlichung: 14. April 2005
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G03F7/00H01L21/00G03F7/30G03F7/38

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Holding N.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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