Method and apparatus for determining plasma impedance

WO2005034183 Art A2 14. April 2005

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2005034183
Aktenzeichen: EP04809672
Anmeldetag: 22. September 2004
Veröffentlichung: 14. April 2005
Rechtsraum: WO
IPC: B23K9/00B23K9/02

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TOKYO ELECTRON LIMITED
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

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