System and method for using first-principles simulation in a semiconductor manufacturing process
WO2005034185
Art A2
14. April 2005
Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2005034185
- Aktenzeichen
- EP04783152
- Anmeldetag
- 30. September 2004
- Veröffentlichung
- 14. April 2005
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G06F9/45G06F7/62G06F17/50
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- TOKYO ELECTRON LIMITED
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Electron
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.
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