Sacrificial Surfactanated Pre-Wet For Defect Reduction in A Semiconductor Photolithography Developing Process

WO2005034211 Art A2 14. April 2005

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2005034211
Aktenzeichen: EP04785315
Anmeldetag: 30. September 2004
Veröffentlichung: 14. April 2005
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/30

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TOKYO ELECTRON LIMITED
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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