Method and apparatus for dispensing a rinse solution on a substrate

WO2005035136 Art A2 21. April 2005

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2005035136
Aktenzeichen: EP04755236
Anmeldetag: 9. Juli 2004
Veröffentlichung: 21. April 2005
Rechtsraum: WO
IPC: B05B1/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TOKYO ELECTRON LIMITED
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Verfahrens- & Trenntechnik

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