Method and apparatus for wafer mechanical stress monitoring and wafer thermal stress monitoring
WO2005035191
Art A1
21. April 2005
Anmelder: LAM RESEARCH CORPORATION 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2005035191
- Aktenzeichen
- EP04782779
- Anmeldetag
- 30. August 2004
- Veröffentlichung
- 21. April 2005
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- B24B37/04B24B49/14B24B49/16
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- LAM RESEARCH CORPORATION
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Lam Research
US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.
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