Masken, Lithographievorrichtung und Halbleiterbauelement

WO2005036266 Art A1 21. April 2005

Anmelder: Carl Zeiss SMT AG 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2005036266
Aktenzeichen: EP03788906
Anmeldetag: 17. September 2003
Veröffentlichung: 21. April 2005
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/14G21K1/06

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT AG
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Elektrische Energietechnik Optik & Fototechnik

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