Position shift detection mark, wafer, and pattern position shift measurement method
WO2005036589
Art A2
21. April 2005
Anmelder: NIKON CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2005036589
- Aktenzeichen
- EP04792418
- Anmeldetag
- 7. Oktober 2004
- Veröffentlichung
- 21. April 2005
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/027G01B11/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- NIKON CORPORATION
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Nikon
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.
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