Reducing photoresist line edge roughness using chemically-assisted reflow u /u

WO2005038884 Art A2 28. April 2005

Anmelder: Intel Corporation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2005038884
Aktenzeichen: EP04795327
Anmeldetag: 15. Oktober 2004
Veröffentlichung: 28. April 2005
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/40G03F7/32

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Intel Corporation
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Intel

US-amerikanischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Kalifornien. Entwickelt und produziert Prozessoren, Chipsätze sowie weitere Halbleiterkomponenten für Computer, Server und eingebettete Systeme.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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