Composition for forming silicon-cobalt film, silicon-cobalt film and method for forming same

WO2005038891 Art A1 28. April 2005

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2005038891
Aktenzeichen: EP04792340
Anmeldetag: 6. Oktober 2004
Veröffentlichung: 28. April 2005
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/28H01L21/288B05D3/00B32B15/01C01B33/04C07F17/02

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

1.781 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente Organische Chemie Verfahrens- & Trenntechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

Vertreten von