Photosensitive resin composition and film having cured coat formed therefrom
WO2005040245
Art A1
6. Mai 2005
Anmelder: NIPPON KAYAKU KABUSHIKI KAISHA 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2005040245
- Aktenzeichen
- EP04792754
- Anmeldetag
- 21. Oktober 2004
- Veröffentlichung
- 6. Mai 2005
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C08G59/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- NIPPON KAYAKU KABUSHIKI KAISHA
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Nippon Kayaku
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, tätig in den Bereichen Spezialchemikalien, Pharmazeutika und Farbstoffe.
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