Shape profile measuring unit and production method for semiconductor device using it

WO2005040719 Art A1 6. Mai 2005

Anmelder: Hitachi, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2005040719
Aktenzeichen: EP04747940
Anmeldetag: 16. Juli 2004
Veröffentlichung: 6. Mai 2005
Rechtsraum: WO
IPC: G01B11/24H01L21/027H01L21/66

Offizieller Volltext

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Anmelder

Firma: Hitachi, Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi

Japanischer Konzern, der Technik für Energie, Bahn, Industrieanlagen, Informationstechnik und Haushaltsgeräte entwickelt und herstellt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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