Resist composition and method for forming resist pattern

WO2005040922 Art A1 6. Mai 2005

Anmelder: TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2005040922
Aktenzeichen
EP04792670
Anmeldetag
20. Oktober 2004
Veröffentlichung
6. Mai 2005
Rechtsraum
WO
IPC
G03F7/039G03F7/004H01L21/027
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Tokyo Ohka Kogyo

Tokyo Ohka Kogyo (TOK) ist ein japanischer Chemiekonzern, der vor allem Fotolacke und Materialien für die Halbleiterfertigung herstellt. Das Portfolio konzentriert sich entsprechend auf Optik und Fototechnik sowie Halbleiter- und Bauelemente-Technik, ergänzt durch Kunststoff- und organische Chemie. Anmeldungen sind von 2000 bis in die Gegenwart belegt.

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