Compact projection objective for arf lithography

WO2005040928 Art A1 6. Mai 2005

Anmelder: Carl Zeiss SMT AG 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2005040928
Aktenzeichen: EP04764680
Anmeldetag: 1. September 2004
Veröffentlichung: 6. Mai 2005
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G02B13/14G02B27/18G02B13/18G02B13/24

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT AG
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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