Method for simultaneous patterning of features with nanometer scale gaps

WO2005043241 Art A2 12. Mai 2005

Anmelder: THE PENN STATE RESEARCH FOUNDATION, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2005043241
Aktenzeichen: EP04800505
Anmeldetag: 1. November 2004
Veröffentlichung: 12. Mai 2005
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: THE PENN STATE RESEARCH FOUNDATION, INC.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Penn State Research Foundation

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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