Position detection method, exposure method, position detection device, exposure device, and device manufacturing method

WO2005045364 Art A1 19. Mai 2005

Anmelder: NIKON CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2005045364
Aktenzeichen: EP04799521
Anmeldetag: 5. November 2004
Veröffentlichung: 19. Mai 2005
Rechtsraum: WO
IPC: G01B21/00H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: NIKON CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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