Etching liquid and etching method for low-k film
WO2005045912
Art A1
19. Mai 2005
Anmelder: DAIKIN INDUSTRIES, LTD. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2005045912
- Aktenzeichen
- EP04818210
- Anmeldetag
- 8. November 2004
- Veröffentlichung
- 19. Mai 2005
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/306H01L21/308
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- DAIKIN INDUSTRIES, LTD.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Daikin Industries
Japanischer Hersteller von Klima- und Kältetechnik mit Sitz in Osaka. Daikin entwickelt Klimaanlagen, Wärmepumpen, Kältemittel und Fluorchemikalien für Gebäude- und Industrieanwendungen.
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