Relax Gas Discharge Laser Lithography Light Source

WO2005046011 Art A2 19. Mai 2005

Anmelder: Cymer, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2005046011
Aktenzeichen: EP04796548
Anmeldetag: 27. Oktober 2004
Veröffentlichung: 19. Mai 2005
Rechtsraum: WO
IPC: H01S3/22

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Cymer, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Cymer

Cymer ist ein US-amerikanisches Unternehmen für Lichtquellen zur Halbleiterlithografie, das zum ASML-Konzern gehört. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Optik und Fototechnik. Anmeldungen laufen kontinuierlich seit dem Jahr 2000.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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