Selective etch and cleaning chemistries, methods of production and uses thereof
WO2005047422
Art A1
26. Mai 2005
Anmelder: Honeywell International Inc., Honeywell International, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2005047422
- Aktenzeichen
- EP04818601
- Anmeldetag
- 10. November 2004
- Veröffentlichung
- 26. Mai 2005
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C09K13/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Honeywell International Inc.
Honeywell International, Inc. - Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Honeywell
US-amerikanischer Mischkonzern mit Schwerpunkten in Luft- und Raumfahrttechnik, Automatisierungslösungen, Gebäudetechnik sowie Spezialchemikalien und -materialien für Industrie- und Verteidigungskunden.
13.051 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Kein Vertreter erfasst.