Thermophoretic techniques for protecting reticles from contaminants

WO2005047981 Art A2 26. Mai 2005

Anmelder: NIKON CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2005047981
Aktenzeichen
EP04810685
Anmeldetag
10. November 2004
Veröffentlichung
26. Mai 2005
Rechtsraum
WO
IPC
G03F7/20
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
NIKON CORPORATION
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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