Method of inspecting unevenness defect of pattern and device therefor

WO2005050132 Art A1 2. Juni 2005

Anmelder: HOYA CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2005050132
Aktenzeichen: EP04818923
Anmeldetag: 17. November 2004
Veröffentlichung: 2. Juni 2005
Rechtsraum: WO
IPC: G01B11/30

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: HOYA CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hoya

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, aktiv in den Bereichen optische Gläser, Halbleiterfotomasken und medizinische Endoskopie- sowie Augenheilkundeprodukte.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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