Substrate with refractive index matching

WO2005050266 Art A1 2. Juni 2005

Anmelder: S.O.I. Tec Silicon on Insulator Technologies 🇫🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2005050266
Aktenzeichen: EP04791016
Anmeldetag: 29. Oktober 2004
Veröffentlichung: 2. Juni 2005
Rechtsraum: WO
IPC: G02B1/11H01L31/0216H01L23/15H01L31/0232H01L33/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: S.O.I. Tec Silicon on Insulator Technologies
Land: 🇫🇷 Frankreich

🇫🇷 S.O.I.Tec Silicon on Insulator Technologies

S.O.I.Tec Silicon on Insulator Technologies war ein französischer Hersteller von Silizium-auf-Isolator-Wafern für die Halbleiterindustrie, das heutige Unternehmen firmiert als Soitec. Der Patentbestand konzentriert sich fast ausschließlich auf Halbleiterbauelemente und Waferbondverfahren.

323 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

Vertreten von