Refraktives Projektionsobjektiv für die Immersions-Lithographie

WO2005050321 Art A1 2. Juni 2005

Anmelder: Carl Zeiss SMT AG 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2005050321
Aktenzeichen: EP03808268
Anmeldetag: 22. Oktober 2003
Veröffentlichung: 2. Juni 2005
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G02B13/14

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT AG
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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