Dielectric films for narrow gap-fill applications

WO2005052989 Art A2 9. Juni 2005

Anmelder: Honeywell International Inc., Honeywell International, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2005052989
Aktenzeichen: EP04817788
Anmeldetag: 6. Oktober 2004
Veröffentlichung: 9. Juni 2005
Rechtsraum: WO
IPC: C08L27/14C23F4/04H01L21/31

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Honeywell International Inc.
Honeywell International, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Honeywell

US-amerikanischer Mischkonzern mit Schwerpunkten in Luft- und Raumfahrttechnik, Automatisierungslösungen, Gebäudetechnik sowie Spezialchemikalien und -materialien für Industrie- und Verteidigungskunden.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Metallurgie & Oberflächentechnik

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