Annealed wafer and annealed wafer manufacturing method

WO2005053010 Art A1 9. Juni 2005

Anmelder: Shin-Etsu Handotai Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2005053010
Aktenzeichen: EP04819286
Anmeldetag: 5. November 2004
Veröffentlichung: 9. Juni 2005
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/324C30B29/06

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Shin-Etsu Handotai Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Shin-Etsu Handotai

Japanisches Unternehmen der Shin-Etsu-Gruppe, das Siliziumwafer für die Halbleiterindustrie herstellt.

1.022 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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