Anordnung zur W Rmebehandlung von Siliziumscheiben in einer Prozesskammer

WO2005056874 Art A1 23. Juni 2005

Anmelder: Infineon Technologies AG 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2005056874
Aktenzeichen: EP04802906
Anmeldetag: 9. Dezember 2004
Veröffentlichung: 23. Juni 2005
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/48H01L21/00H01J37/32

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Infineon Technologies AG
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Infineon Technologies

Deutscher Halbleiterkonzern mit Sitz in Neubiberg bei München, hervorgegangen aus Siemens. Entwickelt und fertigt Halbleiter und Systemlösungen für Automobil-, Industrie- und Sicherheitsanwendungen.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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