Differential evaluation of adjacent regions for change in reflectivity
WO2005057194
Art A1
23. Juni 2005
Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2005057194
- Aktenzeichen
- EP04813302
- Anmeldetag
- 8. Dezember 2004
- Veröffentlichung
- 23. Juni 2005
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G01N21/956G01R31/308
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Applied Materials, Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Applied Materials
US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.
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