Use of scanning beam for differential evaluation of adjacent regions for change in reflectivity

WO2005057195 Art A1 23. Juni 2005

Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2005057195
Aktenzeichen: EP04813566
Anmeldetag: 8. Dezember 2004
Veröffentlichung: 23. Juni 2005
Rechtsraum: WO
IPC: G01N21/956

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Applied Materials, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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