Lithographic apparatus and device manufacturing method

WO2005057280 Art A2 23. Juni 2005

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2005057280
Aktenzeichen: EP04808742
Anmeldetag: 29. November 2004
Veröffentlichung: 23. Juni 2005
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/00

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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