Insulating film, method for forming same and composition for forming film

WO2005057646 Art A1 23. Juni 2005

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2005057646
Aktenzeichen: EP04820240
Anmeldetag: 8. Dezember 2004
Veröffentlichung: 23. Juni 2005
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/312H01L21/768

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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