Ozone processing method and ozone processing system
WO2005058753
Art A1
30. Juni 2005
Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2005058753
- Aktenzeichen
- EP04807150
- Anmeldetag
- 16. Dezember 2004
- Veröffentlichung
- 30. Juni 2005
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C01B13/10B01D47/05B01D53/14H01L21/302H01L21/304
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- TOKYO ELECTRON LIMITED
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Electron
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.
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