Microlithography projection objective with crystal elements

WO2005059645 Art A2 30. Juni 2005

Anmelder: Carl Zeiss SMT AG 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2005059645
Aktenzeichen: EP04803744
Anmeldetag: 10. Dezember 2004
Veröffentlichung: 30. Juni 2005
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/00

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT AG
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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