Wafer temperature trajectory control method for high temperature ramp rate applications using dynamic predictive thermal modeling

WO2005062346 Art A1 7. Juli 2005

Anmelder: Axcelis Technologies, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2005062346
Aktenzeichen: EP04813388
Anmeldetag: 9. Dezember 2004
Veröffentlichung: 7. Juli 2005
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Axcelis Technologies, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Axcelis Technologies

Axcelis Technologies, Inc. ist ein US-amerikanischer Hersteller von Ionenimplantationsanlagen für die Halbleiterfertigung mit Sitz in Beverly, Massachusetts. Das Patentportfolio ist fast vollständig auf Halbleiter und elektrische Bauelemente konzentriert, ergänzt um Oberflächentechnik und Mess- und Prüftechnik. Das Unternehmen meldet durchgehend seit 2000 an.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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