Vertical heat treatment device and method of controlling the same

WO2005064254 Art A1 14. Juli 2005

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2005064254
Aktenzeichen: EP04807608
Anmeldetag: 22. Dezember 2004
Veröffentlichung: 14. Juli 2005
Rechtsraum: WO
IPC: F27B5/18

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TOKYO ELECTRON LIMITED
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Heiz-, Kühl- & Beleuchtungstechnik

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