Dispositif Et Procede D'observation D'une Interface De Collage

WO2005064320 Art A1 14. Juli 2005

Anmelder: COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE ( CEA), S.O.I.TEC Silicon on Insulator Technologies, Tracit Technologies 🇫🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2005064320
Aktenzeichen
EP04817584
Anmeldetag
22. Dezember 2004
Veröffentlichung
14. Juli 2005
Rechtsraum
WO
IPC
G01N21/88G01R31/26H01L21/20H01L21/762
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen
COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE ( CEA)
S.O.I.TEC Silicon on Insulator Technologies
Tracit Technologies
Land
🇫🇷 Frankreich
🇫🇷 S.O.I.Tec Silicon on Insulator Technologies

S.O.I.Tec Silicon on Insulator Technologies war ein französischer Hersteller von Silizium-auf-Isolator-Wafern für die Halbleiterindustrie, das heutige Unternehmen firmiert als Soitec. Der Patentbestand konzentriert sich fast ausschließlich auf Halbleiterbauelemente und Waferbondverfahren.

323 Patente in unserer Datenbank

Vertreten von

Kein Vertreter erfasst.

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen