Dispositif Et Procede D'observation D'une Interface De Collage
WO2005064320
Art A1
14. Juli 2005
Anmelder: COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE ( CEA), S.O.I.TEC Silicon on Insulator Technologies, Tracit Technologies 🇫🇷
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2005064320
- Aktenzeichen
- EP04817584
- Anmeldetag
- 22. Dezember 2004
- Veröffentlichung
- 14. Juli 2005
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G01N21/88G01R31/26H01L21/20H01L21/762
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE ( CEA)
S.O.I.TEC Silicon on Insulator Technologies
Tracit Technologies - Land
- 🇫🇷 Frankreich
🇫🇷
S.O.I.Tec Silicon on Insulator Technologies
S.O.I.Tec Silicon on Insulator Technologies war ein französischer Hersteller von Silizium-auf-Isolator-Wafern für die Halbleiterindustrie, das heutige Unternehmen firmiert als Soitec. Der Patentbestand konzentriert sich fast ausschließlich auf Halbleiterbauelemente und Waferbondverfahren.
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