Lithographic apparatus having a debris-mitigation system, a source for producing euv radiation having a debris mitigation system and a method for mitigating debris

WO2005064401 Art A2 14. Juli 2005

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2005064401
Aktenzeichen: EP04808844
Anmeldetag: 31. Dezember 2004
Veröffentlichung: 14. Juli 2005
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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