Lithographic apparatus with a debris-mitigation system

WO2005064411 Art A2 14. Juli 2005

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2005064411
Aktenzeichen: EP04808837
Anmeldetag: 29. Dezember 2004
Veröffentlichung: 14. Juli 2005
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

3.336 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von