Method and system to compensate for lamp intensity differences in a photolithographic inspection tool

WO2005066615 Art A1 21. Juli 2005

Anmelder: Tokyo Electron Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2005066615
Aktenzeichen: EP04813814
Anmeldetag: 9. Dezember 2004
Veröffentlichung: 21. Juli 2005
Rechtsraum: WO
IPC: G01N21/956G01N21/93G01N21/95

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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