Coater/developer and coating/developing method

WO2005067011 Art A1 21. Juli 2005

Anmelder: Tokyo Electron Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2005067011
Aktenzeichen: EP04821008
Anmeldetag: 3. Dezember 2004
Veröffentlichung: 21. Juli 2005
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/027B05C11/08B05C9/12B05D3/00G03F7/30G03F7/16

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Tokyo Electron Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik Verfahrens- & Trenntechnik

Vertreten von