Substrate processing apparatus

WO2005067023 Art A1 21. Juli 2005

Anmelder: Tokyo Electron Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2005067023
Aktenzeichen
EP04807774
Anmeldetag
24. Dezember 2004
Veröffentlichung
21. Juli 2005
Rechtsraum
WO
IPC
H01L21/3065H01L21/205C23C16/44
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Tokyo Electron Ltd.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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