Vorrichtung und Verfahren zur Wellenfrontvermessung eines Optischen Abbildungssystems und Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage

WO2005069079 Art A1 28. Juli 2005

Anmelder: Carl Zeiss SMT AG 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2005069079
Aktenzeichen: EP04702665
Anmeldetag: 16. Januar 2004
Veröffentlichung: 28. Juli 2005
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT AG
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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