Integrierter Transistor, insbesondere F R Spannungen Grö ;sser 40 Volt, und Herstellungsverfahren
WO2005069380
Art A1
28. Juli 2005
Anmelder: Infineon Technologies AG 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2005069380
- Aktenzeichen
- EP04821083
- Anmeldetag
- 26. November 2004
- Veröffentlichung
- 28. Juli 2005
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L29/732H01L21/331H01L29/06H01L21/225H01L29/78H01L21/762
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Infineon Technologies AG
- Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Infineon Technologies
Deutscher Halbleiterkonzern mit Sitz in Neubiberg bei München, hervorgegangen aus Siemens. Entwickelt und fertigt Halbleiter und Systemlösungen für Automobil-, Industrie- und Sicherheitsanwendungen.
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