Method and apparatus for selectively changing thin film composition during electroless deposition in a single chamber

WO2005073429 Art A2 11. August 2005

Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2005073429
Aktenzeichen: EP05722527
Anmeldetag: 25. Januar 2005
Veröffentlichung: 11. August 2005
Rechtsraum: WO
IPC: C23C18/16

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Applied Materials, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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