Method for cleaning process chamber of substrate processing apparatus, substrate processing apparatus, and method for processing substrate

WO2005074016 Art A1 11. August 2005

Anmelder: Tokyo Electron Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2005074016
Aktenzeichen: EP05704164
Anmeldetag: 27. Januar 2005
Veröffentlichung: 11. August 2005
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/31H01L21/3065

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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