Structure comprising amorphous carbon film and method of forming thereof

WO2005074449 Art A2 18. August 2005

Anmelder: Tokyo Electron Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2005074449
Aktenzeichen: EP04812317
Anmeldetag: 17. Dezember 2004
Veröffentlichung: 18. August 2005
Rechtsraum: WO
IPC: H01L23/52H01L23/48H01L29/40

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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