Method and apparatus for determining chemistry of part's residual contamination

WO2005076192 Art A1 18. August 2005

Anmelder: Tokyo Electron Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2005076192
Aktenzeichen: EP04800482
Anmeldetag: 10. November 2004
Veröffentlichung: 18. August 2005
Rechtsraum: WO
IPC: G06F19/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Software & Datenverarbeitung

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