Crystalline thin film and method for producing same

WO2005077525 Art A1 25. August 2005

Anmelder: The University of Tokyo 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2005077525
Aktenzeichen: EP05710129
Anmeldetag: 10. Februar 2005
Veröffentlichung: 25. August 2005
Rechtsraum: WO
IPC: B01J19/08C23C14/58

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: The University of Tokyo
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 University of Tokyo

Japanische Universität mit Sitz in Tokio, eine der führenden Forschungsuniversitäten Asiens. Die Universität ist in nahezu allen wissenschaftlichen und technischen Disziplinen aktiv, darunter Materialwissenschaften, Elektrotechnik, Biotechnologie und Medizin.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik Verfahrens- & Trenntechnik

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